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    真空鍍膜機的使用步驟

    日期:2022-07-10 22:13
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    摘要:
     
    真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發,電子槍加熱蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。

    電控柜操作
    1. 開水泵、氣源。
    2. 開總電源。
    3. 開維持泵、真空計電源,真空計檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進入下一步操作。約需5分鐘。
    4. 開機械泵、預抽,開渦輪分子泵電源、并啟動,真空計開關換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。
    5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以后,關預抽,開前級泵和高真空閥繼續抽真空,抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能打開電子槍電源。

    DEF-6B操作
    1. 總電源。
    2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關,延時、電源及保護燈亮,三分鐘后延時及保護燈滅,若后門未關好或水流繼電器有故障,保護燈會常亮。
    3. 開高壓,高壓會達到10KV以上,調節束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉電流在1~1.7之間擺動。

    關機順序
    1. 關高真空表頭、關分子泵。
    2. 待分子泵顯示到50時,依次關高閥、前級、機械泵,這期間約需40分鐘。
    3. 到50以下時,再關維持泵。




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