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真空鍍膜機的使用步驟
日期：2022-07-10 22:13
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摘要：
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發，電子槍加熱蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。
電控柜操作
1. 開水泵、氣源。
2. 開總電源。
3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機械泵、預抽，開渦輪分子泵電源、并啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關預抽，開前級泵和高真空閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能打開電子槍電源。
DEF-6B操作
1. 總電源。
2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。
關機順序
1. 關高真空表頭、關分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。
3. 到50以下時，再關維持泵。
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